隨著工藝技術(shù)從40 nm向28 nm的發(fā)展，不可避免的尺度效應(yīng)改變了基本單元的電特性——芯片設(shè)計人員必須采用的晶體管和互聯(lián)導(dǎo)線。這些新的晶體管級難題也導(dǎo)致了系統(tǒng)級IC體系結(jié)構(gòu)、實現(xiàn)以及性能的改變。這些芯片級變化建立了新領(lǐng)域，系統(tǒng)設(shè)計人員必須在其中開辟新途徑。

　　IC面市以來，工藝尺度一直在不斷進(jìn)展。在每一新工藝代，zui小特征尺寸都減小了大約三分之一，zui小的晶體管占據(jù)的面積也減小了兩倍。同時，數(shù)字電路的zui大時鐘頻率在增大，功耗也在降低，其變化都相對穩(wěn)定。那么，在每一新工藝代，芯片設(shè)計人員能夠為系統(tǒng)開發(fā)人員提供新IC，集成了更多的功能，速度更快，而功耗更低。但是，這些都一去不復(fù)返了。

　　今天，為了減小晶體管的尺寸，工藝開發(fā)人員不得不提供給芯片設(shè)計人員涉及到速度、功耗和成本的一系列復(fù)雜條件。芯片設(shè)計人員必須采用他們所有的工具，包括新的電路設(shè)計、新體系結(jié)構(gòu)方法，并對算法進(jìn)行根本的修改，以便能夠以相競爭的價格繼續(xù)實現(xiàn)更好的性能，而功耗在可接受范圍內(nèi)。目前為止，這些方法是有效的，但是系統(tǒng)設(shè)計人員對此并不了解。28-nm工藝代的確是系統(tǒng)設(shè)計的新時代：在這一時代，系統(tǒng)設(shè)計人員必須理解提供硅片的芯片設(shè)計人員面臨的難題及其決定。

　　簡單尺度的結(jié)束

　　工藝工程師認(rèn)為，基本問題在于隨著晶體管尺寸的減小，互聯(lián)部分越來越短，電信號特性也在不斷變化。隨著晶體管的減小，它們無法自動提高速度，而是開始泄漏。那么，在28 nm，設(shè)計人員看到晶體管不再像以前那樣在各方面都繼續(xù)提升性能，而是出現(xiàn)了復(fù)雜的變化。您可以簡單的減小40-nm硅氮氧化物柵極晶體管的尺寸，實現(xiàn)相對較低的圓晶成本。但是，您既不能實現(xiàn)zui高速率，也不能實現(xiàn)zui低功耗。您可以通過應(yīng)變工程提高速度，采用高k/金屬柵極（HKMG）堆減小泄漏電流，但是增加了成本。在一定程度上，您可以通過改變工作電壓來綜合考慮功耗問題。您可以通過控制晶體管的閾值電壓，或者設(shè)計修改，應(yīng)用體偏置，犧牲速度以減小泄漏電流。但是，對于所有應(yīng)用，沒有一個*平衡點，能夠以zui低功耗實現(xiàn)速度zui快的晶體管。

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